일 | 월 | 화 | 수 | 목 | 금 | 토 |
---|---|---|---|---|---|---|
1 | ||||||
2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 |
9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 |
16 | 17 | 18 | 19 | 20 | 21 | 22 |
23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 |
- Energy Band
- Threshold Voltage
- 부피결함
- SK하이닉스
- RCAT
- ion implantation
- feol
- MOSFET
- Dynamic Random Access Memory
- effective mass
- 반도체소자
- mechanism
- She
- 양자역학
- 선결함
- oxidation
- SOI MOSFET
- doping
- Silicon on Insulator
- GIDL
- Warpage
- finFET
- Short Channel Effect
- Punch through
- 반도체 8대공정
- high bandwidth memory
- 반도체공정
- 반도체공학
- DRAM
- HBM
- Today
- Total
반도체 공부 기록
[반도체소자] 4.Threshold Voltage Roll-off 본문
Thresholod Voltage Roll-off
문턱 전압 감소 현상(Thresholod Voltage Roll-off)은 MOSFET의 채널 길이가 감소함에 따라 Soure/Drain의 Depletion 영역에 의해 문턱 전압이 조정되는 현상
(MOSFET이 Tunr-on 되기 위해서 Channel 영역이 Depletion → Weak inversion → Strong inversion이 일어나야 하는데, MOSFET의 채널 길이가 짧아지면서 Source/Drain depletion이 채널 영역에서 일어나야하는 (Gate의 영향 없이) Depletion 역할 수행)
→ Threshold voltage drop
♭ Long channel MOSFET
Long channel MOSFET에서도 Source/Drain depletion 영역에 의한 Threshold voltage drop일 발생할 수 있지만 영향이 매우 작기 때문에 무시 가능
(Long channel MOSFET에서도 Threshold voltage roll-off 현상이 발생하지만 Magin을 벗어나지 않은 범위로 무시)
♭ Short channel MOSFET
Short channel MOSFET에서는 Source/Drain depletion 영역에 의한 Threshold voltage drop이 발생하고, Threshold voltgae 변화량을 무시할 수 없음
→ VTH 감소에 따른 VOV(Overdrive voltage, VOV=VGS-VTH)증가로 ID 증가
<출처>
Donald A. Neaman, "Semiconductor physics and device" 4th edition.
오류가 있다면 지적해주시면 감사하겠습니다 :)
'반도체소자' 카테고리의 다른 글
[반도체소자] 6. Punch through (0) | 2023.06.23 |
---|---|
[반도체소자] 5. Drain Induced Barrier Lowering(DIBL) (0) | 2023.06.22 |
[반도체소자] 3. Channel Length Modulation (CLM) (0) | 2023.05.09 |
[반도체소자] 2. Subthreshold swing (0) | 2023.05.09 |
[반도체소자] 1. MOSFET 동작 원리 (0) | 2023.05.09 |